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典型应用-中子散射

      SHI-4TSHI-950T系列4K制冷机可特殊设计应用于中子散射和衍射实验。这些系统带有铝(或者钒)中子区,将中子区壁厚减小,可最大程度地减少中子束到达实验样品前的吸收,从而增大中子束穿过率。       选项包括:    ●          样品在真空或交换氦气中    ●          特殊的安装法兰匹配Goniometers    ●       长尾部可到达深中子阱    ●     大样品区使得样品到铝壁间距离尽可能最大    ●          冷指处有4K屏蔽层    ●          紧凑型设计满足空间受限场合    ●          可更换尾部    ●          高温选配至800K       特殊定制的SHI-950T,用于中子散射,温度变化范围从4K到800K,请查看图纸:   中子散射的其他应用案例请查看产品应用:中子散射